首页 科技资讯 业界

中芯国际0.13/0.11微米工艺介绍

技术简介

和0.15微米器件的制程技术相比,我们的0.13微米工艺能使芯片面积缩小25%以上,性能提高约30%。与0.18微米制程技术比较,芯片面积更可缩小超过50%,而其性能也提高超过50%。 

中芯的0.13微米制程采用全铜制程技术,从而在达到高性能设备的同时,实现成本的优化。中芯的 0.13 微米技术工艺使用 8 层金属层宽度仅为 80 纳米的门电路,能够制作核心电压为 1.2V 以及输入 / 输出电压为 2.5V 或 3.3V的组件。我们的高速、低电压和低漏电制程产品已在广泛生产中

中芯国际可以提供0.13/0.11微米的单元库,内存编译器,输入输出接口和模拟IP。

特点

0.13 微米/0.11微米铜工艺平台

工艺组件选择

应用产品

中芯国际在0.13/0.11微米技术节点上可提供低成本的闪存控制器、媒体播放器和其他各种应用产品。

以上数据来自中芯国际官网

官方微博/微信

每日头条、业界资讯、热点资讯、八卦爆料,全天跟踪微博播报。各种爆料、内幕、花边、资讯一网打尽。百万互联网粉丝互动参与,TechWeb官方微博期待您的关注。

↑扫描二维码

想在手机上看科技资讯和科技八卦吗?

想第一时间看独家爆料和深度报道吗?

请关注TechWeb官方微信公众帐号:

1.用手机扫左侧二维码;

2.在添加朋友里,搜索关注TechWeb。

手机游戏更多