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Intel用上美国自研芯片设备:EUV工艺省事一半 成本大降

Intel当前的12代、13代酷睿使用的是Intel 7工艺,今年底的14代酷睿Meteor Lake还会首发Intel 4工艺,这也是Intel首次大规模使用EUV光刻机。

EUV光刻机虽然先进,但是成本也高,而且高端工艺甚至需要双重光刻,也就是用EUV光刻机曝光两次,生产工序就需要重复两次,比如蚀刻、清洗、沉积、去胶等等,无疑会增加成本。

美国半导体设备大厂应用材料现在推出Centura Sculpta曝光系统设备,将原本需要双重曝光的EUV光刻工艺简化到了单次曝光,大大降低了设计成本和复杂性,并且消除了双重曝光所需的对准导致的良率问题。

根据应用材料的说法,采用该系统的芯片制造商如果运行一条每月加工10万片晶圆的生产线,将节省多达2.5亿美元的资本成本。

此外,每片晶圆的成本将减少约50美元,所需能源也将减少15千瓦时,还将减少15升水的需求,减少0.35千克的二氧化碳排放。

这个新设备已经有Intel投入使用了,三星及台积电用没用还没公布,但是Intel无疑会走在降低成本的前列。

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