2月12日消息,据媒体报道,荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。阿斯麦表示,这款设备耗资3.5亿美元(约合人民币25亿元),主要面向英特尔等高端半导体制造商,预计今年将出货一
12月22日消息,据媒体报道,荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦(ASML)确认,向英特尔交付首台高数值孔径(NA)的极紫外(EUV)光刻系统。数值孔径是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围,通过增大数值孔径,可以实
财联社12月14日讯(编辑 刘蕊)美东时间周二,荷兰半导体设备巨头阿斯麦CEO质疑,美国推动荷兰采取限制对华出口的新规是否合理。据环球网报道,从特朗普政府时期,美国就一直游说荷兰禁止该公司向中国出售高端光刻机