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ASML CEO承诺年底前交付首台High-NA EUV光刻机 每台售价3亿美元

IT之家 9 月 6 日消息,ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采访时表示,尽管供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付 High NA EUV 机器。

ASML 表示一台高数值孔径 EUV 光刻(High-NA EUV)设备的体积和卡车相当,每台设备的售价超过 3 亿美元(IT之家备注:当前约 21.9 亿元人民币),可以满足一线芯片制造商的需求,可以在未来十年内制造更小、更好的芯片。

Wennink 表示部分供应商无法提高组件的数量和质量,因此导致了轻微的延误,但整体而言这些困难都可以控制,承诺会在今年年底之前交付首台机器。

IT之家此前报道,对于后 3nm 时代,ASML 及其合作伙伴正在开发一种全新的 EUV 光刻机 ——Twinscan EXE:5000 系列,该系列机器将具有 0.55 NA(高 NA)的透镜,分辨率达 8nm,从而在 3 nm 及以上节点中尽可能地避免双重或是多重曝光。

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