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耗资3.5亿美元!阿斯麦展出新型“High NA EUV”设备

2月12日消息,据媒体报道,荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。

阿斯麦表示,这款设备耗资3.5亿美元(约合人民币25亿元),主要面向英特尔等高端半导体制造商,预计今年将出货一部分,但在定制和安装方面仍有工作要做。

据悉,数值孔径是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围,通过增大数值孔径,可以实现更小的分辨率和更高的分辨能力,从而满足微细加工的要求。

从阿斯麦官网所公布的消息来看,他们的高数值孔径极紫外光刻机,将命名为EXE系列。

其数值孔径将由0.33增至0.55,已有TWINSCAN EXE:5000和TWINSCAN EXE:5200两个型号,前者在2018年就已开始获得客户的订单,后者从去年四季度也开始获得订单。

标签: 阿斯麦

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