上周有投资者向中芯国际求证中芯关于下一代芯片量产消息,中芯国际回答表示,中芯国际第二代 FinFET N+1 已进入客户导入阶段,可望于 2020 年底进行小批量试产。
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FinFET(鳍式场效应晶体管)在当前的晶圆代工领域可谓是大放异彩的核心技术,台积电甚至打算一路用到3nm时代。
目前,12LP+已经在AI训练芯片领域通过了IP验证,可减少生产成本、创造更大价值。
中芯国际表示,为加强在先进制程方面的技术实力,公司不断加大先进制程的研发投入,相继实现了28nm HKC+工艺、第一代 14nm FinFET工艺的研发和量产,第二代14nm FinFET工艺的研发也在稳健进行中,并不断拓展成熟工艺应用平台,因此公司研发费用率高于可比上市公司。
有媒体援引知情人士的话称,中芯国际(SMIC)已经启动了14nm FinFET工艺芯片的量产,且计划年底前进行12nm FinFET的风险试产。
中芯国际发布了2018年第二季度财报数据,营收净利润获得双增长,同时中芯国际披露其14纳米FinFET技术开发上获得重大进展。财报发布后的首个交易日,中芯国际股价大涨7.2%,收盘报6.37美元。
根据美国德克萨斯州联邦法院的裁决,三星电子侵犯了一家韩国大学关于双栅极FinFET半导体工艺的技术专利,必须赔偿4亿美元。韩国科学技术院(KAIST)在美国的授权机构起诉三星电子,称其曾经宣称要与韩国大学共同研究FinFET(鳍式场效应晶体管)技术,但很快就放弃,改变主意从Intel那里购买授权,不过三星还是使用了他们的技术,却并非付费。
10月17日消息,据国外媒体报道,三星今天宣布已经开始批量生产具有10纳米FinFET技术的SoC芯片,将成为业界率先实现这一突破的公司,这也是继2015年1月成功批量生产业界第一款FinFET移动应用处理器之后的成果。
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